El gigante de la producción de semiconductores de China, SMIC, ha comenzado las pruebas para una herramienta de inmersión ultravioleta profunda (DUV) desarrollada por la startup con sede en Shanghai Yuliangeng, según lo informado por el Financial Times. Este nuevo equipo está diseñado para facilitar la producción de chips de 28 nanómetros (NM), con el potencial de extenderse a los circuitos de nodos de 7 nm a través de técnicas avanzadas de varias patas.
El desarrollo de esta herramienta subraya los continuos esfuerzos de China para reducir su dependencia de los equipos de producción de semiconductores importados. En particular, se han producido la mayoría de los componentes de las herramientas en su propio país, aunque algunas partes aún se obtienen de proveedores internacionales.
Aunque la fase de prueba temprana es un hito importante, los expertos enfatizan que transformar una herramienta prototipo en una máquina de producción de masas estable y de alto interés podría durar años. Existen limitaciones actuales, en particular la falta de acceso a la tecnología ultravioleta extrema (EUV) avanzada, que es crucial para producir chips en uniones de menos de -5 nm.
En respuesta, Sicarrier en Shenzhen, una parte interesada en Yuliangsheng, lidera una iniciativa doméstica bajo el nombre del proyecto «Mount Everest» para desarrollar soluciones EUV. Sin embargo, este esfuerzo permanece en sus fases emergentes, lo que indica un camino largo y desafiante que nos recae en la ambición de China para fortalecer las posibilidades de producción de los semiconductores.
 immersion tool developed by the Shanghai-based startup){kind=link}